等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。該機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體與清洗物的表面污染物發(fā)生反應(yīng)并灰化，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
 

　　等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
 

　　等離子清洗機(jī)的應(yīng)用，起源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用越來(lái)越廣，目前已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的地位，等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響大，電子資訊工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

 

　　超聲波清洗機(jī)原理主要是通過(guò)換能器，將功率超聲頻源的聲能轉(zhuǎn)換成機(jī)械振動(dòng)，通過(guò)清洗槽壁將超聲波輻射到槽子中的清洗液。由于受到超聲波的輻射，使槽內(nèi)液體中的微氣泡能夠在聲波的作用下從而保持振動(dòng)。破壞污物與清洗件表面的吸附，引起污物層的疲勞破壞而被駁離，氣體型氣泡的振動(dòng)對(duì)固體表面進(jìn)行擦洗。它利用的是液體中超聲波的空化效應(yīng)對(duì)物體表面污染物進(jìn)行破壞撞擊，有的應(yīng)用還需輔助化學(xué)清洗劑，從而達(dá)到清洗目的。
 

　　所以當(dāng)需要對(duì)精密產(chǎn)品或者不適合液體清洗產(chǎn)品進(jìn)行清洗時(shí)推薦微波等離子清洗機(jī)，而允許液體清洗的應(yīng)用則可以權(quán)衡考慮是選擇超聲波清洗機(jī)還是等離子清洗機(jī)。有的工藝應(yīng)用甚至是前一工段進(jìn)行超聲波清洗，后一工段緊接著是等離子清洗。兩者沒有誰(shuí)好誰(shuí)壞，只是要選擇符合工藝要求的清洗方式而已。