等離子清洗機中的等離子體與自然界產(chǎn)生的等離子體本質(zhì)上是一樣的，是區(qū)別于固體、液體和氣體的另一種物質(zhì)聚集態(tài)，人們稱之為物質(zhì)存在的第四種狀態(tài)。它由電離的導電氣體組成，其中包括六種典型的粒子，即電子、正離子、負離子、激發(fā)態(tài)的原子或分子、基態(tài)的原子或分子以及光子。
等離子清洗機的原理：
由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。
就反應(yīng)機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
等離子體清洗技術(shù)的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
等離子可以被定義為部分或全部電離的氣體。有數(shù)量粗略相等的正電荷粒子和負電荷粒子。等離子體是采用高電壓，高溫電弧人工產(chǎn)生的，高溫電弧是電暈放電過程以及用來蒸發(fā)和再沉積金屬的等離子體焰炬的基礎(chǔ)。
